NR74g 3000PY光刻胶公司量大从优,北京赛米莱德公司

楼主:赛米莱德  时间:2021-06-14 02:22:23
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NR74g 3000PY光刻胶公司量大从优,北京赛米莱德公司[赛米莱德6633219]

正性光刻胶的结构

光学光刻胶通常包含以下三种成分:(1)聚合物材料(也称为树脂)。聚合物材料在光的辐照下不发生化学反应,其主要作用是保证光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性,同时也决定着光刻胶薄膜的其他一些特性(如光刻胶的膜厚要求、弹性要求和热稳定性要求等)。(2)感光材料。感光材料一般为复合性物质(简称PAC或感光剂)。感光剂在受光辐照之后会发生化学反应。正胶的感光剂在未曝光区域起抑制溶解的作用,可以减慢光刻胶在显影液中的溶解速度。以正性胶为例,使用g射线和i射线光刻中的正性胶是由重氮醌(简称为DQ)感光剂和酚树脂构成。(3)溶剂(如丙二醇-,PGME)。溶剂的作用是使光刻胶在涂覆到硅片表面之前保持为液态

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光刻胶介绍

光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒较高。

从技术水平来看,在PCB领域,国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力,已经实现对主流厂商大批量供货。

赛米莱德以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售光刻胶,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,赶快拨打图片上的热线电话!

何为光刻胶

光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种具有光化学敏感性的功能性化学材料,由光引发剂、光刻胶树脂、单体(活性稀释剂)、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体,其中,树脂约占50%,单体约占35%。

它被称为是电子化工材料中技术壁垒较高的材料之一,主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工,同时在 LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用。

按照下游应用,光刻胶可分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶、PCB(印刷线路板)用光刻胶等,其技术壁垒依次降低。

期望大家在选购光刻胶时多一份细心,少一份浮躁,不要错过细节疑问。想要了解更多光刻胶的相关资讯,欢迎拨打图片上的热线电话!!

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