加工注塑LED灯反光杯免费咨询「多图」

楼主:锦城镀膜  时间:2021-07-25 15:11:41
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佛山市锦城镀膜有限公司以耐高温车辆灯具注塑+镀膜为主的生产厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.

真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。优点:以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐,磁控溅射法可获得高度c轴取向,表面平整度高,可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的质量和附着性能好。可蒸发各种导电材料,金属或合金, 成份不受限制。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。

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溅射镀膜原理:

溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种薄膜的目的,即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。辉光放电是在10-2Pa-10Pa真空度范围内,在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。它是离子溅射镀膜的基础,即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。

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PLD缺点:1、在镀膜过程中,薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低质量,采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面PLD生长部比较困难,因此进一步提高薄膜的质量会比较困难.

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磁控溅射:

原理:磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的Zn0:A1薄膜制备方法,通常分为直流溅射(DC)和射频溅射(IC)两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材,使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。

优点:以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐,磁控溅射法可获得高度c轴取向,表面平整度高,可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。

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